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        產品展示
        • 反滲透+EDI超純水設備

        設備名稱:反滲透+EDI超純水設備

        設備型號:FEAT-CW
        清洗對象:超純水
        使用廠家:半導體、太陽能、硅片、光學、光電行業

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        詳細參數 Parameter

        超純水設備應用范圍                                              


        1、電子材料加工、單晶硅半導體、半導體材料、液晶顯示器、計算機硬盤、印刷電路板、集成電路;


        2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管;


        3、超純材料和超純化學劑導纖維和光盤;


        4、汽車、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產品;


        超純水設備技術參數                                              


        機器型號:N 1T-DI


        制 水 量:1 T/H


        主要管徑:DN 32


        工作壓力:≤1.0MPa


        產水電阻率:18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm


        進水水源:城市自來水


        進水水溫:5-35℃


        機器電源:380V/50HZ

        超純水設備產品介紹                                            

        采用國際先進的反滲透裝置,配套進口混合離子交換設備或EDI設備和紫外線滅菌器、精密過濾器,出水水質符合電子部超純水水質標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級),取代蒸餾水,滿足大專院校、科研機構和工業企業的實驗、科研和生產對高純度純水的要求。

            該設備廣泛應用于電鍍工藝去離子水、電池生產工藝用純水、汽車、家用電器、建材產品表面涂裝、清洗純水、鍍膜玻璃用純水、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統。超純水制造技術的發展極大地推動了半導體和電子工業的技術發展。


        超純水設備工藝說明                                              


        電子工業制備超純水的工藝大致分成以下3種:


          1、離子交換樹脂制備超純水設備的傳統水處理方式,其基本工藝流程為:


        原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→后置保安過濾器→用水點(特點:污染比較大,自動化程度低,初期投入低)

          2、反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備超純水設備的方式,其基本工藝流程為:


        原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點 (特點:污染小,自動化程度高,初期投入中等,價格適中)

          3、反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備超純水設備的的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:


        原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(特點:環保,自動化程度高,初期投入大,價格相對比較貴)


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